HALO™系列:高性能超高純氣體分析儀

HALO QRP (超低壓力 痕量水分儀)
 
 偵測氣體  水分 (HO)
 背景氣體   多種氣體
 量測範圍   依型號而異
 最低檢出限  ppb
 主要特點
  • 在分壓為 1 µTorr 及以下條件下進行水分檢測
  • 對準確度和極佳精度
  • 寬動態範圍-超過四個數量級
  • 擁有成本低 操作簡便
  • 清潔技術-無需外部校正氣體
  • 緊湊型分析儀 也可作為OEM模組用於設備/系統集成
 主要功能
  • 超低壓水分監測 (< 50 TORR)甚至低至 1 Torr 範圍運行
  • 磊晶 (LT-Epi)、ALD 和 MOCVD 等低壓半導體積製程
  • 即時、快速響應(T90 反應時間通常在幾分鐘
  • 高靈敏度檢測
  • 免校準技術 無需日常維護
  • 多種背景氣體相容性 包括 氣、氣、氣、氣、(鹽酸) 等 
 應用領域  集中在對濕度控制極為嚴格的低壓環境和超高純度 (UHP) 氣體相關業,特別是 半導體製造 如 低磊晶 (LT-Epi), ALD(原子層積) , MOCVD(金屬有機化學氣相積)等積製程、負載鎖 (Load Lock) 和晶圓傳送腔室監測、超高純度氣體生與品管、工業氣體和化學品生


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